真空鍍膜機(jī)的構(gòu)成和不良反應(yīng)該怎么解決

2021-06-26 11:56:13

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多功能真空鍍膜機(jī)是磁控濺射、多弧離子鍍膜和蒸發(fā)鍍膜的混合設(shè)備。在多弧離子鍍膜機(jī)的基礎(chǔ)上，配以圓柱形靶材或平面磁控管靶材。該設(shè)備具有離子鍍的高電離率和高堆積速度的特點(diǎn)。它還具有低溫和磁控濺射穩(wěn)定性的優(yōu)點(diǎn)。適用于各種復(fù)合膜的電鍍。

多功能真空鍍膜機(jī)：磁控管、中頻、多弧離子鍍膜

① 發(fā)汗磁控濺射混合設(shè)備：多功能，適合批量生產(chǎn)，適應(yīng)性強(qiáng)。

② 磁控濺射與多弧離子鍍的混合應(yīng)用：多弧可提高火炮清洗質(zhì)量，增加薄膜與基體的附著力。與磁控濺射結(jié)合，可以制備復(fù)合膜（高能離子源清洗活化，成膜速度快）。

③ 多中頻磁控濺射靶與柱弧離子鍍的混合應(yīng)用：中頻靶更穩(wěn)定（如鋁），電離率高，堆積速度快，成膜均勻。如反應(yīng)濺射，如鍍SiO2、TiO2等，用不同的原材料多層鍍膜。

④ 射頻、直流、中頻、柱弧混合應(yīng)用：射頻可直接涂覆絕緣保護(hù)膜SiO2/Ag/SiO2

⑤ 圓柱弧、中頻弧和多弧混合應(yīng)用：圓柱弧確保高電離率，減少大顆粒的積聚，具有良好的附著力和表面光潔度。多功能真空鍍膜機(jī)適用于表帶、表殼、眼鏡架、手機(jī)殼、高爾夫工具、衛(wèi)浴、首飾等中高檔產(chǎn)品。

真空鍍膜機(jī).jpg

改進(jìn)措施：

一是加強(qiáng)脫脂去污處理。如果是超聲波清洗，應(yīng)注重脫脂功能，保證脫脂液的有效性；如果是手搓，可以考慮用碳酸鈣粉擦拭后再清洗。

二是鍍前加強(qiáng)烘烤。如果條件允許，基板溫度比較好保持在300以上℃ 保持20分鐘以上，以便盡可能多地?fù)]發(fā)基材表面的水蒸氣和油蒸氣*注：溫度越高，基材的吸附容量越大，且容易吸附灰塵。因此，應(yīng)提高真空室的清潔度。否則，鍍前會有灰塵附著在基體上，不僅會造成其它缺陷，還會影響膜層強(qiáng)度（基體上水汽的化學(xué)脫附溫度在260以上）℃ 在真空中。但并非所有零件都需要高溫烘烤。一些硝酸鹽材料在高溫下膜強(qiáng)度較低，會出現(xiàn)色斑。它與應(yīng)力和材料熱匹配有很大關(guān)系。

3.在條件允許的情況下，機(jī)組配備PolyCold，不僅可以提高機(jī)組抽真空速度，而且有助于去除基體上的水蒸氣和油氣。

四是提高蒸發(fā)真空度。對于1米以上的涂布機(jī)，蒸發(fā)起始真空度應(yīng)大于3*10-3pa。涂布機(jī)越大，開始蒸發(fā)的真空度越高。

5.在條件允許的情況下，在機(jī)組內(nèi)安裝離子源，鍍前進(jìn)行轟擊，清洗基體表面，輔助涂裝工藝，有利于鍍層的致密性和牢固性。

六膜材料除濕，將培養(yǎng)皿中使用的膜材料放入真空室中干燥。

7.保持工作環(huán)境干燥（包括擦拭鏡片和雨傘工作區(qū)），清潔工作環(huán)境時不要帶入過多的水蒸氣。

8.對于多層膜，在設(shè)計(jì)膜系時，應(yīng)考慮第1層膜與襯底的匹配，盡量考慮使用對大多數(shù)襯底具有良好吸附能力的Al2O3膜材料。對于金屬膜，也可以考慮第1層Cr或Cr合金。鉻或鉻合金對基體也有良好的吸附能力。

9.用拋光液（拋光液）去除鏡片表面的腐蝕層（水解層）

同時，降低蒸發(fā)速率有利于提高膜的強(qiáng)度和膜的表面光潔度。

② 薄膜應(yīng)力：

薄膜的成膜過程是物質(zhì)形態(tài)轉(zhuǎn)變的過程。成膜后，薄膜中不可避免地會產(chǎn)生應(yīng)力。對于多層膜，膜材料有不同的組合，每個膜所反映的應(yīng)力不同，有的是拉應(yīng)力，有的是壓應(yīng)力，還有膜與基體的熱應(yīng)力。

應(yīng)力的存在對薄膜的強(qiáng)度是有害的。輕的是薄膜不能抵抗摩擦，重的是薄膜破裂或網(wǎng)狀通道。

對于減反射膜，由于層數(shù)較少，應(yīng)力不明顯，高反射膜和多層濾膜的應(yīng)力是常見的不利因素，應(yīng)特別注意。