真空膜是指要求具有較高真空度的薄膜，特別是真空離子蒸發(fā)、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積等。磁控濺射靶在真空鍍膜過程中，由于發(fā)射時溫度較高，會使射出變形，所以它有一個水套來冷卻射。但要保證套管內水溫不受環(huán)境溫度和自然溫度的影響，通常需要借助冷水機組實現(xiàn)真空鍍膜機組的冷卻冷卻。

負壓條件下成膜有許多優(yōu)點：可以減少蒸發(fā)的材料原子、分子在飛向基底的過程中與分子的碰撞、氣體中活性分子與蒸發(fā)源材料之間的化學反應(例如氧化等)，以及降低成膜過程中氣體分子進入基底中成為雜質的數(shù)量，采用金屬真空鍍膜，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基底的粘接能力。一般真空蒸鍍要求成膜室內壓力等于或低于10-2Pa，對于距離基片較遠、成膜質量要求高的蒸發(fā)源要求降低壓力。

在濺射膜上激光濺射鍍膜，成分均勻，易于保持，在原子尺度上厚度均勻度相對較差(因為是脈沖濺射)，晶向(外邊沿)生長的控制也比較一般。真空鍍膜機操作規(guī)程具體操作時，請參照本說明書及本設備上儀表盤的指針顯示和每個旋鈕下的標注說明。確認真空鍍膜機的各個操作控制開關是否處于“關斷”位置。就我國現(xiàn)有的涂裝生產線而言，主要存在以下問題：設計水平不高，我國在涂裝設備開發(fā)方面投入不大，先進成熟的涂裝設備很少占領市場，即使是國內自己建造的涂裝生產線，生產線上的一些關鍵設備也是引進多了。它在國內的一些基礎部件和控制部件的質量并沒有過關，經不起長期的考驗。