真空鍍膜設(shè)備的功能

2020-11-16 00:53:32

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真空鍍膜技術(shù)是指在真空環(huán)境中，某些金屬或金屬化合物以蒸氣的形式沉積在材料（通常是非金屬）的表面上。這是物理氣相沉積過程，因為涂層通常是鋁，錫，銦和其他金屬的薄膜，因此也稱為真空金屬化。真空鍍膜設(shè)備的功能主要是使鍍層部件的表面具有高度的金屬光澤和鏡面效果，尤其是對于汽車燈罩而言，具有非常重要的聚光效果；其次，使鍍層具有出色的阻隔性能，提供出色的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果。

真空鍍膜設(shè)備

根據(jù)生產(chǎn)氣相金屬的方法和涂層的沉積方法，真空涂覆分為兩個過程：熱蒸發(fā)涂覆方法和磁控濺射涂覆方法。其中，磁控濺射法具有涂層與基材之間的結(jié)合力強，涂層致密均勻的優(yōu)點，并具有更多的技術(shù)優(yōu)勢。真空鍍膜的材料主要是金屬和金屬氧化物。金屬涂層材料包括鋁，錫，銦，鈷，鎳，銅，鋅，銀，金，鈦，鉻，鉬，鎢等；合金涂層材料包括鎳鉻，鎳鐵，鐵鈷，金銀金等。金屬化合物包括二氧化硅，二氧化鈦，二氧化錫等。其中，鋁是最常用的。這主要是由于鋁的蒸發(fā)溫度低，易于操作，鋁涂層與塑料的附著力好，對紫外線和氣體的抵抗力強以及價格低廉。

真空鍍膜設(shè)備的功能是多方面的，這決定了其廣泛的應(yīng)用范圍。真空鍍膜的主要功能是賦予被鍍部件表面高度的金屬光澤和鏡面效果，使薄膜在薄膜材料上具有優(yōu)異的阻隔性能，并提供出色的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果。真空鍍膜技術(shù)是指在真空環(huán)境下，某些金屬化合物以蒸氣的形式沉積在材料（通常是非金屬材料）的表面上。這是物理氣相沉積過程。由于涂層通常是金屬膜，因此也稱為真空金屬化。