蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍是真空鍍膜技術(shù)的三種形式，基于這三種技術(shù)的真空鍍膜設(shè)備是實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量、高性能鍍膜的關(guān)鍵。以磁控濺射鍍膜設(shè)備為例，在真空環(huán)境中，帶電的氬氣通過(guò)高壓電場(chǎng)和磁場(chǎng)處于離子態(tài)，撞擊靶材料，靶原子沖向基底形成膜層。

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面。它以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，采用物理或化學(xué)方法，吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻、磁控管等一系列新技術(shù)?？茖W(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)為薄膜制備提供了一種新的方法。簡(jiǎn)單地說(shuō)，將金屬、合金或化合物在真空中蒸發(fā)或?yàn)R射固化并沉積在被涂覆物(稱(chēng)為基板、基板或基板)上的方法稱(chēng)為真空鍍膜。

目前，薄膜加工技術(shù)廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)和精密機(jī)械領(lǐng)域。安全真空釬焊爐由于采用了薄膜工藝技術(shù)，生產(chǎn)出了高附加值的產(chǎn)品，因此薄膜工藝技術(shù)和薄膜材料被廣泛應(yīng)用于研究，實(shí)際上也帶來(lái)了涂層技術(shù)的快速發(fā)展。一般來(lái)說(shuō)，鍍膜方法主要有離子鍍膜法、射頻磁控濺射法、真空蒸發(fā)法、化學(xué)氣相沉積法等。然而，隨著集成電路的密度和小型化以及機(jī)械精度的提高，對(duì)鍍層厚度的要求也越來(lái)越嚴(yán)格。安全真空釬焊爐提供了多功能磁控濺射鍍膜系統(tǒng)。該系統(tǒng)由真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)組成。它可以在高真空蒸發(fā)室中完成薄膜蒸發(fā)，并附著在手套盒上。

樣品的儲(chǔ)存、制備以及氣相沉積后樣品的檢測(cè)都是在高純度惰性氣體氣氛下進(jìn)行的。