真空鍍膜設(shè)備鍍膜厚度是多少呢

2020-12-23 15:32:28

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電鍍行業(yè)大的問題是，技術(shù)更新太快，沒有一個行業(yè)能持續(xù)超過十年的增長，這樣我們就可以安全退休了。我的應(yīng)對方法如下，有些效果，你也試一試吧。

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面，是一種基于真空技術(shù)，利用物理或化學(xué)方法，吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的新工藝.簡言之，就是將金屬、合金或化合物在真空中蒸發(fā)或濺射，使之凝固并沉積在被鍍膜物體(稱為基板、基片或基體)上的方法。

真空鍍膜設(shè)備

真空鍍膜一般由金屬材料鍍出的膜厚度約為3-5微米.光學(xué)鍍膜的膜厚度測試可在鍍膜機(jī)的中央安裝一臺膜厚測試儀.早期采用光控測試，現(xiàn)在一般采用晶振片，采用晶振片振動的頻率來測試鍍膜的厚度.不同膜層厚度不一樣。

我們生產(chǎn)的真空鍍膜設(shè)備有：電阻蒸發(fā)式真空鍍膜設(shè)備、電子束蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備、磁控濺射鍍膜設(shè)備、多弧離子真空鍍膜設(shè)備、多功能真空鍍膜設(shè)備、真空焊接專用設(shè)備等。各種真空鍍膜設(shè)備廣泛應(yīng)用于家用電器，鐘表，玩具，車燈燈罩，手機(jī)，工具，陶瓷，瓷磚，塑料，玻璃，五金，光學(xué)，電子等高科技行業(yè)，已成功地開發(fā)出滿足客戶不同需求的鍍膜工藝方案。