真空鍍膜機(jī)采用不同的鍍膜工藝，其自動化控制系統(tǒng)也不盡相同，即使是相同的鍍膜工藝，由于控制技術(shù)指標(biāo)的不同，所采用的控制系統(tǒng)也不盡相同。微機(jī)自動控制系統(tǒng)、自動控制裝置、工業(yè)自動化儀表、壓力控制儀、真空計(jì)及某些自動控制元件等一般鍍膜設(shè)備的基本構(gòu)成，可以實(shí)現(xiàn)對真空鍍膜設(shè)備的程序自動控制、轉(zhuǎn)換鍍膜過程、調(diào)整真空工藝參數(shù)等基本功能。

對真空鍍膜機(jī)的控制系統(tǒng)進(jìn)行選型時，必須能有效地滿足真空鍍膜設(shè)備及其工藝對控制的需要，注意真空鍍膜設(shè)備的各種構(gòu)造與自動控制系統(tǒng)的配合，要求自動控制系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡單，成本低，自動化程度不一定很高，但必須保證真空鍍膜設(shè)備安全可靠，使用方便，易于維護(hù)?？刂葡到y(tǒng)對自動控制裝置及其部件、自動儀表的選擇應(yīng)合理。

負(fù)壓鍍膜是膜體在高溫下蒸發(fā)到工件表面的結(jié)晶。因?yàn)榭諝鈱φ舭l(fā)的膜體分子會產(chǎn)生阻力而與之發(fā)生碰撞，使得結(jié)晶體變得粗糙而無光，因此必須在高真空下使結(jié)晶體產(chǎn)生細(xì)密光亮，如果真空度不高，結(jié)晶體就會失去光澤，結(jié)合力也很差。利用磁場，加快中頻磁控濺射靶對膜體蒸發(fā)的分子進(jìn)行轟擊，濺射出大量的目標(biāo)原子，使中性目標(biāo)原子(或分子)沉積在基底上，形成薄膜，解決了以往自然蒸發(fā)不能加工的膜體品種。由于高頻高電流大，中頻設(shè)備必須加入冷卻水。當(dāng)電流通過導(dǎo)體的時候，會產(chǎn)生集膚效應(yīng)，電荷會聚集在導(dǎo)電表面，從而產(chǎn)生發(fā)熱，因此采用中孔管做導(dǎo)體的中間加水冷卻。