LOW-E，也稱為鍍膜玻璃，分為在線鍍膜和離線鍍膜！性能優(yōu)勢：導(dǎo)電性，節(jié)能，防紫外線等。LOW-E玻璃，也稱為low-e玻璃，在玻璃表面或由薄膜產(chǎn)品組成的其他化合物上涂覆了多層金屬。其涂層具有可見光透射率高，中，遠紅外反射率高的特點，與普通玻璃和傳統(tǒng)建筑涂層玻璃相比，具有優(yōu)異的隔熱效果和良好的隔熱性。透光率。

真空磁控濺射鍍膜特別適用于反應(yīng)沉積鍍膜。實際上，該工藝可以沉積氧化物，碳化物和氮化物材料的任何薄膜。此外，該工藝還特別適用于多層膜結(jié)構(gòu)的沉積，包括光學(xué)設(shè)計，彩色膜，耐磨涂層，納米層壓板，超晶格涂層，絕緣膜等。早在1970年，就有高質(zhì)量光學(xué)薄膜沉積箱，并開發(fā)了各種光學(xué)薄膜材料。這些材料包括透明導(dǎo)電材料，半導(dǎo)體，聚合物，氧化物，碳化物和氮化物。至于氟化物，它們主要用于蒸發(fā)鍍膜等工藝中。

可以根據(jù)不同的設(shè)備配置不同角度的安裝頭；安裝使用20個不銹鋼管和復(fù)合法蘭，適用于高真空和高純度涂層。此外，還可以根據(jù)客戶需要設(shè)計其他特殊功能。圓形磁控濺射靶的應(yīng)用領(lǐng)域。靶直徑為50150mm，主要用于大學(xué)和科研機構(gòu)的研究磁控濺射鍍膜設(shè)備；直徑為150mm或更大的目標是使用http // magnetic的生產(chǎn)型磁控濺射鍍膜設(shè)備。受控濺射鍍膜用動能為數(shù)十電子伏特或更高的帶電粒子轟擊材料表面，從而使原子獲得足夠的能量以濺入氣相。這種濺射的復(fù)雜粒子散射過程稱為濺射。濺射涂層位于真空室內(nèi)，使用帶電粒子轟擊材料表面，使原子獲得足夠的能量。