多功能真空鍍膜機(jī)是磁控濺射、多弧離子鍍膜和蒸發(fā)鍍膜的混合設(shè)備。在多弧離子鍍膜機(jī)的基礎(chǔ)上，配以圓柱形靶材或平面磁控管靶材。該設(shè)備具有離子鍍的高電離率和高堆積速度的特點(diǎn)。它還具有低溫和磁控濺射穩(wěn)定性的優(yōu)點(diǎn)。適用于各種復(fù)合膜的電鍍。

多功能真空鍍膜機(jī)：磁控管、中頻、多弧離子鍍膜

① 發(fā)汗磁控濺射混合設(shè)備：多功能，適合批量生產(chǎn)，適應(yīng)性強(qiáng)。

② 磁控濺射與多弧離子鍍的混合應(yīng)用：多弧可提高火炮清洗質(zhì)量，增加薄膜與基體的附著力。與磁控濺射結(jié)合，可以制備復(fù)合膜（高能離子源清洗活化，成膜速度快）。

③ 多中頻磁控濺射靶與柱弧離子鍍的混合應(yīng)用：中頻靶更穩(wěn)定（如鋁），電離率高，堆積速度快，成膜均勻。如反應(yīng)濺射，如鍍SiO2、TiO2等，用不同的原材料多層鍍膜。

④ 射頻、直流、中頻、柱弧混合應(yīng)用：射頻可直接涂覆絕緣保護(hù)膜SiO2/Ag/SiO2

⑤ 圓柱弧、中頻弧和多弧混合應(yīng)用：圓柱弧確保高電離率，減少大顆粒的積聚，具有良好的附著力和表面光潔度。多功能真空鍍膜機(jī)適用于表帶、表殼、眼鏡架、手機(jī)殼、高爾夫工具、衛(wèi)浴、首飾等中高檔產(chǎn)品。

改進(jìn)措施：

一是加強(qiáng)脫脂去污處理。如果是超聲波清洗，應(yīng)注重脫脂功能，保證脫脂液的有效性；如果是手搓，可以考慮用碳酸鈣粉擦拭后再清洗。

二是鍍前加強(qiáng)烘烤。如果條件允許，基板溫度比較好保持在300以上℃ 保持20分鐘以上，以便盡可能多地?fù)]發(fā)基材表面的水蒸氣和油蒸氣*注：溫度越高，基材的吸附容量越大，且容易吸附灰塵。因此，應(yīng)提高真空室的清潔度。否則，鍍前會有灰塵附著在基體上，不僅會造成其它缺陷，還會影響膜層強(qiáng)度（基體上水汽的化學(xué)脫附溫度在260以上）℃ 在真空中。但并非所有零件都需要高溫烘烤。一些硝酸鹽材料在高溫下膜強(qiáng)度較低，會出現(xiàn)色斑。它與應(yīng)力和材料熱匹配有很大關(guān)系。

3.在條件允許的情況下，機(jī)組配備PolyCold，不僅可以提高機(jī)組抽真空速度，而且有助于去除基體上的水蒸氣和油氣。

四是提高蒸發(fā)真空度。對于1米以上的涂布機(jī)，蒸發(fā)起始真空度應(yīng)大于3*10-3pa。涂布機(jī)越大，開始蒸發(fā)的真空度越高。

5.在條件允許的情況下，在機(jī)組內(nèi)安裝離子源，鍍前進(jìn)行轟擊，清洗基體表面，輔助涂裝工藝，有利于鍍層的致密性和牢固性。

六膜材料除濕，將培養(yǎng)皿中使用的膜材料放入真空室中干燥。

7.保持工作環(huán)境干燥（包括擦拭鏡片和雨傘工作區(qū)），清潔工作環(huán)境時不要帶入過多的水蒸氣。

8.對于多層膜，在設(shè)計(jì)膜系時，應(yīng)考慮第1層膜與襯底的匹配，盡量考慮使用對大多數(shù)襯底具有良好吸附能力的Al2O3膜材料。對于金屬膜，也可以考慮第1層Cr或Cr合金。鉻或鉻合金對基體也有良好的吸附能力。

9.用拋光液（拋光液）去除鏡片表面的腐蝕層（水解層）

同時，降低蒸發(fā)速率有利于提高膜的強(qiáng)度和膜的表面光潔度。

② 薄膜應(yīng)力：

薄膜的成膜過程是物質(zhì)形態(tài)轉(zhuǎn)變的過程。成膜后，薄膜中不可避免地會產(chǎn)生應(yīng)力。對于多層膜，膜材料有不同的組合，每個膜所反映的應(yīng)力不同，有的是拉應(yīng)力，有的是壓應(yīng)力，還有膜與基體的熱應(yīng)力。

應(yīng)力的存在對薄膜的強(qiáng)度是有害的。輕的是薄膜不能抵抗摩擦，重的是薄膜破裂或網(wǎng)狀通道。

對于減反射膜，由于層數(shù)較少，應(yīng)力不明顯，高反射膜和多層濾膜的應(yīng)力是常見的不利因素，應(yīng)特別注意。

改進(jìn)措施：

烘烤后電鍍，烘烤后最后一層薄膜，不要立即停止，繼續(xù)10分鐘“回火”。薄膜結(jié)構(gòu)趨于穩(wěn)定。

二是適當(dāng)延長冷卻時間，進(jìn)行退火時效。降低真空室內(nèi)外溫差大引起的熱應(yīng)力。

三對高反射膜和濾膜在蒸發(fā)過程中基板溫度不宜過高，溫度過高容易產(chǎn)生熱應(yīng)力。對氧化鈦和氧化鉭薄膜的光學(xué)穩(wěn)定性也有負(fù)面影響。

3.離子輔助涂層工藝，降低應(yīng)力。

第四，選擇合適的膜系匹配，第1層膜材與襯底匹配（例如，五層減反射膜為al2o3-zro2-al2o3-al2o3-zro2-mgf2；ZrO2也可以使用sv-5（一種ZrO2-TiO2混合薄膜材料）或其他混合高折射率薄膜材料。。

5.適當(dāng)降低蒸發(fā)速率（al2o3-2.5a/s；ZrO2-3A/S；Mgf2-6a/S（參考速率）

六對氧化膜材料均為充氧反應(yīng)鍍，并根據(jù)不同的膜材料控制氧氣進(jìn)氣量。