磁控濺射鍍膜是一種先進(jìn)的表面裝飾鍍膜技術(shù)。將薄膜材料制成陰極圓柱形磁控管旋轉(zhuǎn)靶，置于鍍膜室中心，在電壓(DC或脈沖)作用下，通入工作氣體產(chǎn)生真空輝光放電，在360℃輻射鍍膜。靶材利用率高，工作溫度低，可用于在金屬或非金屬(塑料、玻璃、陶瓷等)上鍍鋁、銅、鉻、鎳、鈦、金、銀和不銹鋼薄膜。)工件。通過引入反應(yīng)氣體可以鍍制各種復(fù)合膜。該涂層具有均勻、致密、附著力強(qiáng)、衍射好的特點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于家電、鐘表、工藝品、玩具和車燈

涂覆靶是一種濺射源，其在適當(dāng)?shù)墓に嚄l件下通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的涂覆系統(tǒng)在基底上形成各種功能膜。簡單來說，靶材就是高速帶電能量粒子轟擊的靶材，用于高能激光武器。當(dāng)不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同目標(biāo)相互作用時(shí)，會產(chǎn)生不同的殺傷和破壞效果。比如蒸發(fā)磁控濺射鍍膜就是加熱蒸發(fā)鍍膜，鋁膜等。通過更換不同的靶材(如鋁、銅、不銹鋼、鈦和鎳靶材等。)，不同的膜系(如超硬、耐磨、耐腐蝕合金膜等。)即可獲得。。目標(biāo)回收具有成本低、密度高、防潮性強(qiáng)、耐腐蝕、環(huán)保等特點(diǎn)。