真空鍍膜的作用

2020-12-21 11:23:10

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真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是基于真空技術(shù)，采用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的新工藝.簡而言之，將金屬、合金或化合物在真空中蒸發(fā)或?yàn)R射，使之凝固并沉積在涂覆物(稱為基體，基片)上的方法，即真空鍍膜。

真空鍍膜

真空鍍膜的作用主要是使鍍膜表面具有高的金屬光澤和鏡面效果，特別是汽車燈罩，具有非常重要的聚光效果；其次，使鍍膜表面具有極好的阻隔性，提供優(yōu)良的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果。根據(jù)氣相金屬生成方式和沉積方式的不同，真空鍍膜分為兩種工藝：熱蒸發(fā)鍍膜法和磁控濺射鍍膜法。而磁控濺射法由于鍍層與基體結(jié)合力強(qiáng)，鍍層致密、均勻，因而更具技術(shù)優(yōu)勢(shì)。負(fù)壓電鍍工藝是指在真空環(huán)境中，某些金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面(通常是非金屬)，屬于物理氣相沉積工藝，由于鍍層通常是鋁、錫、銦等金屬的薄膜，所以又稱負(fù)壓金屬化。

真空膜是指要求具有較高真空度的薄膜，特別是真空離子蒸發(fā)、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積等。磁控濺射靶在真空鍍膜過程中，由于發(fā)射時(shí)溫度較高，會(huì)使射出變形，所以它有一個(gè)水套來冷卻射。但要保證套管內(nèi)水溫不受環(huán)境溫度和自然溫度的影響，通常需要借助冷水機(jī)組實(shí)現(xiàn)真空鍍膜機(jī)組的冷卻冷卻。專用真空鍍膜冷水機(jī)，可穩(wěn)定水溫在5℃~30℃，調(diào)節(jié)可控，可有效控制鍍膜溫度，提高鍍件質(zhì)量。