真空鍍膜機(jī)主要是指一種需要在高真空度下進(jìn)行的鍍膜，包括多種，包括真空電阻加熱蒸發(fā)、電子槍加熱蒸發(fā)、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積、離子束濺射等。主要思路分為蒸發(fā)和濺射。

真空室。

涂布設(shè)備主要包括連續(xù)涂布生產(chǎn)線和單室涂布機(jī)兩種形式。表面進(jìn)行不銹鋼材料制造、氬弧焊和化學(xué)拋光處理。各種規(guī)格的法蘭接口焊接在真空室組件上。

真空獲得部分。

在真空技術(shù)中，真空獲得部分是一個(gè)重要的部分。真空不是一個(gè)真空設(shè)備和方法可以達(dá)到的，必須同時(shí)使用幾個(gè)泵，如機(jī)械泵、羅茨泵和分子泵系統(tǒng)。

真空測(cè)量部分。

真空系統(tǒng)的真空測(cè)量部分是測(cè)量真空室中的壓力。像真空泵一樣，沒(méi)有真空計(jì)可以測(cè)量整個(gè)真空范圍，所以人們根據(jù)不同的原理和要求制作了多種真空計(jì)。如熱電偶表、電離表、皮拉尼表等。

電源部分。

目標(biāo)電源主要包括DC電源、中頻電源、脈沖電源和射頻電源。常見(jiàn)的電源廠商有AE、ADL、Hottinger等。

工藝氣體輸入系統(tǒng)。

機(jī)械傳動(dòng)部分。

涂層要求周?chē)穸染鶆?，因此，在涂層過(guò)程中必須有三次旋轉(zhuǎn)才能滿足要求。即要求大工件臺(tái)旋轉(zhuǎn)(I)時(shí)，小工件承載臺(tái)也旋轉(zhuǎn)(II)，工件本身也可以同時(shí)旋轉(zhuǎn)(III)。在機(jī)械設(shè)計(jì)中，大工件轉(zhuǎn)盤(pán)的底部中心通常有一個(gè)大的主動(dòng)齒輪，周?chē)幸恍┬〉男行驱X輪。如果要實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品旋轉(zhuǎn)，通常用撥叉撥動(dòng)工件旋轉(zhuǎn)。