離子電鍍要想獲得符合性能要求的薄膜，必須使沉積的薄膜具有適當?shù)某煞趾徒M織結構及其薄膜基結合力?？梢岳蒙鲜鲭x子轟擊效果對成膜過程各環(huán)節(jié)的有利影響來實現(xiàn)。離子電鍍影響成膜的主要因素是到達基片的各種粒子(包括膜原子和離子、工作氣體的原子和離子、反應氣體的原子和離子)的能量、通量和各通量的比例。

此外，還有基片的表面狀態(tài)和溫度。實施的手段重要的是控制粒子的等離子體濃度和能量以及基礎溫度的上升。不同的離子電鍍技術和設備產(chǎn)生和控制等離子體的機制不同。影響成膜工藝參數(shù)主要有鍍膜室的氣壓、反應氣體的分壓、蒸發(fā)源的電力、蒸發(fā)速度、蒸發(fā)源和基礎之間的距離、沉積速度、基礎的負偏壓和基礎溫度。

公司以現(xiàn)代薄膜技術為核心，以真空技術和電子高科技為技術保障，以人性化使用為設計基準，努力在我們的產(chǎn)品開發(fā)和設備制造方面取得精益求精。公司將以最優(yōu)質(zhì)、最熱情的服務回報廣大客戶，愿與廣大用戶共同發(fā)展進步，為我國真空鍍膜事業(yè)做出自己的貢獻。

我們企業(yè)的宗旨是重質(zhì)量，守信譽，熱烈歡迎國內(nèi)外用戶前來洽談業(yè)務，建立技術與商業(yè)合作關系。

本公司技術力量雄厚，設備精良，檢測手段完善，可根據(jù)用戶要求設計制造各種真空設備。