磁控濺射對(duì)鍍膜的作用

2021-01-13 18:57:07

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磁控濺射是指電子與氬原子碰撞，電離出大量氬離子和電子，在電場(chǎng)作用下飛向襯底。它是一種利用高壓電場(chǎng)激發(fā)產(chǎn)生等離子體的涂層材料，幾乎適用于所有高熔點(diǎn)金屬，因此比真空鍍膜法成本更高。但與真空鍍膜法相比，磁控濺射法具有鍍膜層與基體層結(jié)合力強(qiáng)、鍍膜層致密均勻等優(yōu)點(diǎn)。

磁控濺射

真空鍍膜的作用主要是賦予被鍍膜件表面高的金屬光澤和鏡面效果，特別是在汽車(chē)燈罩中，其次是賦予涂層優(yōu)異的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果。根據(jù)產(chǎn)生和沉積蒸汽金屬的不同方式，真空鍍膜可分為熱蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜兩種工藝。其中，磁控濺射法因其涂層與基體的附著力強(qiáng)、涂層致密均勻等優(yōu)點(diǎn)而具有更多的技術(shù)優(yōu)勢(shì)。真空鍍膜技術(shù)是指在真空環(huán)境下，以氣相的形式在材料(通常為非金屬)表面沉積金屬或金屬化合物，屬于物理氣相沉積技術(shù)。因?yàn)橥繉油ǔＪ卿X、錫和銦等金屬的薄膜，所以也稱(chēng)為真空金屬化。

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面。它以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，采用物理或化學(xué)方法，吸收電子束、分子束、離子束、等離子體束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備新技術(shù)。簡(jiǎn)而言之，金屬、合金或化合物在真空中蒸發(fā)或?yàn)R射，以固化和固化在涂覆的物體上(稱(chēng)為基底和襯底)